鎳(niè)釋放量檢測是(shì)指通過(guò)一(yī)定(dìng)的(dí)測試方法，測量材(cái)料(liào)中(zhōng)釋(shì)放出的(dí)鎳離子含(hán)量。由(yóu)於(yú)鎳是(shì)一(yī)種常見(jiàn)的過敏原，接(jiē)觸過敏(mǐn)或刺激反(fǎn)應可(kě)能會(huì)導致皮(pí)膚紅腫(zhǒng)，瘙癢等(děng)症狀，因(yīn)此鎳釋(shì)放量檢(jiǎn)測對於(yú)評估產(chǎn)品中可能存在(zài)的(dí)鎳(niè)離子含量(liáng)以及防(fáng)止(zhǐ)鎳(niè)過敏至關重要。鎳(niè)釋(shì)放量檢測(cè)-第三(sān)方CMA檢(jiǎn)測中(zhōng)心，中科(kē)檢(jiǎn)測(cè)提供(gōng)鎳釋放(fàng)量檢(jiǎn)測服(fú)務，具有(yǒu)CMA,CNAS資質。

鎳釋放(fàng)量檢測(cè)方(fāng)法包括
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原(yuán)子吸收(shōu)光譜法(fǎ)（AAS）
：具有(yǒu)高靈敏度和(hé)準(zhǔn)確度。

電(diàn)感耦合等離(lí)子(zǐ)體發射(shè)光譜(pǔ)法（ICP-OES）
：利(lì)用等(děng)離(lí)子(zǐ)體與樣品(pǐn)中的元素(sù)相互(hù)作(zuò)用，檢(jiǎn)測元素(sù)特(tè)征輻射。

X射綫熒光(guāng)光譜(pǔ)法(fǎ)（XRF）
：通過(guò)X射(shè)綫激發(fā)樣品中(zhōng)的(dí)元素，測量熒(yíng)光強度或能量(liáng)轉(zhuǎn)移(yí)情(qíng)況(kuàng)，檢測元(yuán)素。

原(yuán)子(zǐ)熒(yíng)光(guāng)光譜法(fǎ)（AFS）
：通過(guò)激發(fā)樣品中的元素(sù)，測量(liáng)熒光強(qiáng)度或能量(liáng)轉(zhuǎn)移情(qíng)況(kuàng)，檢(jiǎn)測元素。

鎳(niè)釋放(fàng)量(liáng)檢(jiǎn)測標準(zhǔn)
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GB/T 19719-2005首飾(shì)鎳釋放(fàng)量的測(cè)定(dìng)光譜法

GB/T 28485-2012鍍層(céng)飾品(pǐn)鎳釋放量的(dí)測(cè)定磨(mó)損(sǔn)和腐(fǔ)蝕模擬法

EN 1810-1998身體敏感(gǎn)插入(rù)組(zǔ)件(jiàn).用(yòng)火(huǒ)焰原(yuán)子(zǐ)吸收(shōu)光(guāng)譜法(fǎ)測定鎳含(hán)量的參考(kǎo)試(shì)驗(yàn)方法

EN 1811:2011+A1:2015任何插(chā)入人(rén)體穿(chuān)孔部(bù)位(wèi)的緊貼組(zǔ)仵(wǔ)以(yǐ)及(jí)將與皮(pí)膚長(cháng)期(qī)直接(jiē)按(àn)觸的(dí)物品中(zhōng)鎳(niè)釋放的(dí)參考試(shì)驗(yàn)方(fāng)法

EN12472:2005測(cè)定塗(tú)層覆(fù)蓋材料(liào)鎳(niè)釋放(fàng)的模(mó)擬穿(chuān)著磨損和腐蝕試(shì)驗方法(fǎ)標準

鎳釋放量(liáng)檢(jiǎn)測流(liú)程(chéng)如(rú)下
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準備樣品(pǐn)
：將待測(cè)樣(yàng)品(pǐn)（如(rú)服裝，首飾等(děng)）放入人(rén)造汗(hàn)水(shuǐ)測(cè)試液(yè)中。

浸泡
：將樣品浸泡在(zài)測試液中，一般(bān)需要(yào)持續7天(tiān)，每天更換一次(cì)測試(shì)液。

取出樣品
：從測試液中取出樣(yàng)品，用紙巾或幹淨的布(bù)輕輕擦(cā)幹。

鎳(niè)釋(shì)放(fàng)量(liáng)檢(jiǎn)測(cè)
：使(shǐ)用適當的鎳釋放量(liáng)測(cè)試方法（如(rú)通過電(diàn)解法或原子吸收光譜(pǔ)法）對樣(yàng)品進行(háng)鎳(niè)釋(shì)放(fàng)量檢測(cè)。

結果分析
：根據檢測(cè)結(jié)果，判斷(duàn)樣品(pǐn)是(shì)否符合相關(guān)的鎳釋(shì)放量(liáng)限製標準(zhǔn)。

鎳釋放量(liáng)檢測(cè)-第三(sān)方CMA檢測(cè)中(zhōng)心